艾司摩爾推出全球最先進的「高數值孔徑極紫外光微影設備」，具備更高解析度與製程效率，支援2奈米及以下先進製程，成為AI與高效能運算晶片製造的關鍵工具。近期艾司摩爾首度邀請媒體參觀總部的實驗室，也讓這台神秘的巨型設備，第一次對外亮相。

CNBC記者 Katie Tarasov：「我們現在人在荷蘭的艾司摩爾總部，這裡生產了世界上全部的極紫外光微影設備，現在還有『高數值孔徑』的下一代機型。我們必須穿上這種『兔子裝』，是為了保護這些超精密的機器，避免被我們的頭髮或皮膚細胞污染到。」

荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾，首度開放媒體進入位於總部的高度機密實驗室，名為「High NA」的最新一代極紫外光微影設備因此正式對外亮相！這款銀白色、線路錯綜複雜，體積比一輛雙層巴士還要大，並且價值高達4億美元的巨型機器，是全世界唯一能以13.5奈米波長進行高精度晶片製程的設備，可說是AI時代的關鍵工具。

CNBC記者 Katie Tarasov：「你覺得這裡有多少人在工作？」

High NA機台驗證部門團隊主管 Assia Haddou：「光是工廠裡面就大概有2000個人在運作，整個系統是24小時不停歇在運轉的。光線會透過投影光學系統，打到晶圓上，大概就是這個位置，這裡就是晶圓平台。這台機器從開始製造到完成，大概花了一年半的時間。說真的，我到現在還是覺得超震撼，而且你越了解它，就會越覺得不可思議。」

與前一代設備相比，最新的High NA機台擁有更大的數值孔徑，能以更高解析度、更少步驟完成任務。這項技術門檻極高，全球僅有艾司摩爾能製造，單一機台甚至須分解後動用7架波音747貨機才能運送，至今僅出貨5台，落腳英特爾、台積電與三星電子。

CNBC記者 Katie Tarasov：「請問這些機器要用多少電？」

艾司摩爾執行長 Christophe Fouquet：「我覺得真的太多了！如果我們的AI晶片在未來沒辦法提升能源效率，光是訓練那些模型，到2035年左右可能就會把全世界的電都用光。不過從我們2018年開始使用極紫外光微影以來，每次曝光所需的能量已經減少超過60%了。」

展望未來，艾司摩爾同時正積極研發更高階的「Hyper NA」機型，預計在2032至2035年間推出，目標是再度推升晶片微縮極限，並鞏固其在半導體設備領域的主導地位。（記者 陳鳴駿、李芷螢／綜合報導）