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而住友化學則是預計2020年度前,在現有的大阪市工廠內建置,從開發到生產的光阻劑全產線,兩家廠商都表示,最快2021年就可以開始供應,下一代晶片製程使用。
分析師表示,5奈米到3奈米製程,在良率的提升上,難度比過去高出許多,有了新型光阻劑的協助,就能在晶圓蝕刻過程中,留下較少的殘留物,確實能大大提升產品良率。